Lugar de origem: | China |
Marca: | TYHJ |
Certificação: | ISO Certificate |
Número do modelo: | O2 industrial do gás |
Quantidade de ordem mínima: | 200pcs |
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Preço: | negotiable |
Detalhes da embalagem: | 1. GB/cilindro de gás 2. do aço 40L/50L sem emenda padrão do ISO/PONTO como necessário. |
Tempo de entrega: | 15-30 dias de trabalho após o recibo do depósito |
Termos de pagamento: | L/C, T/T, D/A, D/P, Western Union |
Habilidade da fonte: | 10000KG pelo mês |
CAS No.: | 7782-44-7 | N º EINECS: | 231-956-9 |
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UN não.: | UN1072 | Pureza: | 99,995% |
Classe do ponto: | 2,2 | Aparência: | INCOLOR |
Realçar: | industrial and medical gases,ultra high purity gases |
O2 do oxigênio líquido de gás líquidos no vaso Dewar com pureza no. 7782-44-7 de 99,995% - de 99,9997% CAS
No comércio, o oxigênio líquido é classificado como um gás industrial e é amplamente utilizado para finalidades industriais e médicas. O oxigênio líquido é obtido do oxigênio encontrado naturalmente no ar pelo distillationin fracionário uma planta criogênica da separação do ar.
As forças aéreas têm reconhecido por muito tempo a importância estratégica do oxigênio líquido, como um oxidizer e como uma fonte do oxigênio gasoso para respirar nos hospitais e nos voos dos aviões da alta altitude. Em 1985 o U.S.A.F. começou um programa de construir suas próprias facilidades da oxigênio-geração em todas as bases principais do consumo.
Especificação
No. de CAS: 7782-44-7
No. do EINECS: 231-956-9
No. do UN: UN1072
Pureza: 99,995%
Classe do ponto: 2,2
Aparência: Incolor
Padrão da categoria: Categoria industrial
Especificação |
99,995% |
Argônio |
ppmv ≤3.0 |
Nitrogênio |
ppmv ≤25.0 |
Dióxido de carbono |
ppmv ≤0.5 |
Monóxido de carbono |
ppmv ≤0.5 |
THC (CH4) |
ppmv ≤0.5 |
Água |
ppmv ≤2.0 |
Hidrogênio |
ppmv ≤1.0 |
Aplicação típica
Uso da indústria:
Usando-se na indústria para a fábrica de aço, a fundição do metal não-ferroso e o corte do material do metal.
Uso médico:
No tratamento de primeiros socorros das emergências tais como o cardíaco do sufocamento e do ataque, no tratamento dos pacientes com desordens respiratórias e na anestesia.
Fabricação do semicondutor:
Depósito de vapor químico do dióxido de silicone, do crescimento térmico do óxido, gravura a água-forte do plasma, do plasma que descascam do fotoresistente e do gás de portador em determinadas operações do depósito/difusão.
Empacotamento & envio
Tamanho do pacote |
cilindro 40Ltr |
cilindro 50Ltr |
TANQUE DO ISO |
Índice de enchimento/Cyl |
5CBM |
10CBM |
/ |
QTY carregado em 20' recipiente |
240Cyls |
200Cyls |
|
Volume total |
1200CBM |
2000CBM |
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Peso de tara do cilindro |
50Kgs |
55Kgs |
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Válvula |
PX-32A/QF-2/CGA540 |
Pessoa de Contato: Millet